Депонирование
Получите ценную информацию и ускорьте процесс разработки.
Advanced Energy поставляет решения для электропитания и управления для критически важных приложений по осаждению тонких пленок и геометрии устройств.Чтобы решить проблемы обработки пластин, наши прецизионные решения по преобразованию энергии позволяют оптимизировать точность, точность, скорость и повторяемость процесса.
Мы предлагаем широкий диапазон радиочастот, системы питания постоянного тока, индивидуальные уровни выходной мощности, соответствующие технологии и решения для мониторинга температуры по оптоволокну, которые действительно позволяют вам лучше контролировать технологическую плазму.Мы также интегрируем Fast DAQ™ и наш пакет сбора и обеспечения доступа к данным, чтобы обеспечить понимание процессов и ускорить процесс разработки.
Узнайте больше о наших процессах производства полупроводников, чтобы найти решение, соответствующее вашим потребностям.
Ваш вызов
От пленок, используемых для моделирования размеров интегральной схемы, до проводящих и изолирующих пленок (электрических структур) и металлических пленок (межсоединений), ваши процессы осаждения требуют контроля на атомном уровне — не только для каждого элемента, но и для всей пластины.
Помимо самой структуры, ваши нанесенные пленки должны быть высокого качества.Они должны обладать желаемой зернистой структурой, однородностью и конформной толщиной, а также не содержать пустот — и это помимо обеспечения необходимых механических напряжений (сжимающих и растягивающих) и электрических свойств.
Сложность только продолжает возрастать.Чтобы устранить ограничения литографии (узлы размером менее 1X нм), методы самовыравнивающегося двойного и четверного рисунка требуют, чтобы процесс осаждения создавал и воспроизводил рисунок на каждой пластине.
Наше решение
Когда вы развертываете наиболее важные приложения для осаждения и геометрию устройств, вам нужен надежный лидер рынка.
Технология высокочастотной подачи энергии и высокоскоростного согласования Advanced Energy позволяет вам настраивать и оптимизировать точность, точность, скорость и повторяемость процесса, необходимые для всех передовых процессов осаждения PECVD и PEALD.
Используйте нашу технологию генератора постоянного тока для точной настройки настраиваемой реакции дуги, точности мощности, скорости и повторяемости процессов, необходимых для процессов PVD (напыление) и ECD-осаждения.
Преимущества
● Повышенная стабильность плазмы и повторяемость процесса повышают выход продукции.
● Точная подача ВЧ и постоянного тока с полным цифровым управлением помогает оптимизировать эффективность процесса.
● Быстрая реакция на изменения плазмы и управление дугой.
● Многоуровневая пульсация с адаптивной настройкой частоты повышает селективность скорости травления.
● Доступна глобальная поддержка для обеспечения максимального времени безотказной работы и производительности продукта.