Отложение
Получайте информацию и ускоряйте процесс разработки.
Advanced Energy поставляет решения по электропитанию и управлению для критических приложений осаждения тонких пленок и геометрий устройств. Для решения задач обработки пластин наши решения по прецизионному преобразованию мощности позволяют оптимизировать точность, точность, скорость и повторяемость процесса.
Мы предлагаем широкий спектр частот RF, систем питания постоянного тока, настраиваемых уровней выходной мощности, технологий согласования и решений для мониторинга температуры оптоволокна, которые действительно позволяют вам лучше контролировать плазму процесса. Мы также интегрируем Fast DAQ™ и наш набор для сбора и доступности данных, чтобы обеспечить понимание процесса и ускорить процесс разработки.
Узнайте больше о наших процессах производства полупроводников, чтобы найти решение, которое соответствует вашим потребностям.
Ваш вызов
От пленок, используемых для моделирования размеров интегральных схем, до проводящих и изолирующих пленок (электрические структуры) и металлических пленок (межсоединения) — ваши процессы осаждения требуют контроля на атомном уровне — не только для каждого элемента, но и для всей пластины.
Помимо самой структуры, ваши осажденные пленки должны быть высокого качества. Они должны обладать желаемой зернистой структурой, однородностью и конформной толщиной, а также быть без пустот — и это в дополнение к обеспечению требуемых механических напряжений (сжатия и растяжения) и электрических свойств.
Сложность только продолжает расти. Для преодоления ограничений литографии (узлы менее 1X нм) самосовмещенные методы двойного и четверного шаблонирования требуют, чтобы ваш процесс осаждения создавал и воспроизводил шаблон на каждой пластине.
Наше решение
При развертывании наиболее важных приложений осаждения и геометрии устройств вам необходим надежный лидер рынка.
Технология подачи ВЧ-мощности и высокоскоростного согласования компании Advanced Energy позволяет настраивать и оптимизировать точность мощности, точность, скорость и повторяемость процесса, необходимые для всех современных процессов осаждения PECVD и PEALD.
Используйте нашу технологию генератора постоянного тока для точной настройки настраиваемой реакции дуги, точности мощности, скорости и повторяемости процесса, необходимых для процессов PVD (напыления) и осаждения ECD.
Преимущества
● Улучшенная стабильность плазмы и повторяемость процесса увеличивают выход
● Точная подача ВЧ и постоянного тока с полным цифровым управлением помогает оптимизировать эффективность процесса
● Быстрая реакция на изменения плазмы и управление дугой
● Многоуровневая импульсная генерация с адаптивной настройкой частоты улучшает селективность скорости травления
● Доступна глобальная поддержка для обеспечения максимального времени безотказной работы и производительности продукта